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台积电大佬讲述翻身内幕:提高光刻分辨率 2021-12-29 10:50:04  来源:快科技

这几年中,台积电超越了Intel、三星等对手,一跃成为半导体制造行业的大哥。但台积电的崛起过程也不是一帆风顺的,因为20年前Intel等公司如日中天的时候,一度将台积电排除在先进工艺之外。

前台积电研发副总林本坚日前提到了这段往事,他指出2002年左右,Intel拉拢摩托罗拉、AMD等公司成立了EUV LCC联盟,一起出钱出力研发EUV光刻设备,希望用于未来的60nm、40nm等工艺。

当时台积电也希望参与EUV联盟,但是被排挤,因为只限于6家公司,最终IBM抢到最后一个位置,台积电无缘。

虽然台积电没有加入EUV联盟,但是他们转而研究了沉浸式光刻技术(光刻工艺与折射率相关,水中的折射率比空气要高,有利于提高光刻分辨率),最终实现了翻身。

关键词: 台积电 翻身内幕 光刻分辨率 光刻工艺

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